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華為Mate60Pro搭載的麒麟9000S芯片,性能幾何?

第三代半導體技術與材料論壇將于2023年9月21-22日在廈門召開,詳見后文

華為智能手機業務負責人余承東在8月4日舉行的2023華為開發者大會上介紹更新后的操作系統時表示:“我們鴻蒙生態走過了這艱難的四年,我們克服了重重困難,回首望去,輕舟已過萬重山,華為的旗艦手機也正走在回歸的道路上。”

8月29日,華為悄無聲息的扔下了一顆重磅炸彈,華為Mate 60 Pro手機直接上市銷售,并且帶著大家關切的麒麟芯片回歸了,這是自美國制裁以來,華為在智能手機硬件方面的最重要的突破性舉動。


(資料圖片)

華為Mate 60 Pro手機突發上市,引發巨大關注,人們的目光全部聚焦到搭載的這顆芯片及網絡制式上,華為真的突圍了?這是一部5G手機嗎?麒麟芯片是庫存還是新款?

華為官方渠道并未公布搭載了哪款芯片,系統也進行了隱藏。而眾多用戶稱,使用華為Mate 60 Pro手機不顯示“5G”標識,其基帶版本為21C50B717S000C000/21C50B717S000C000,和此前麒麟芯片的命名規則一致。根據速度測試,搭載4G芯片的華為Mate X3下載速度為100Mbps,iPhone 14 Pro 5G手機下載速度為500Mbps,令人驚喜的是,華為Mate 60 Pro手機測速顯示也在500Mbps水平,但我們也只能說是速度類似5G,也有可能是速度更快的4G。

據B站UP主@先看評測視頻顯示,在要求運營商關閉所謂的5G SA服務后,華為Mate 60 Pro手機網絡信號處跳出4G標識,而下行速度也降到了三分之一。說明這妥妥就是一臺具備5G速度的手機。

拆機視頻顯示,華為Mate 60 Pro手機的核心SoC芯片顯露出來,絲印清晰顯示“HiSilicon”,海思半導體,它回來了。還有代表麒麟9000型號的“Hi36A0”(但麒麟9000s是不同于麒麟9000的一款新芯片),芯片上還有“2035-CN”標識。不過,關于這顆麒麟芯片制程方面,還不得而知。

在性能方面,華為也帶來了驚喜。

安兔兔公布這款新機的跑分成績為 699783 分,該成績不包括GPU跑分,GPU 部分由于安兔兔還沒有適配,暫時還無法運行測試。據安兔兔跑分數據顯示,華為Mate60 Pro芯片型號為 Kirin 9000s,CPU采用了2+6+4的12核設計,其中包括兩顆 A34 核心,六顆A78AE核心,以及四顆A510核心,最高主頻2.62GHz;GPU 型號顯示為 Maleoon 910,采用12GB+512GB內存,搭載 HarmonyOS4.0系統。安兔兔表示,這款手機搭載的處理器似乎是新的架構,上述參數是以現階段能夠讀取到硬件信息,最終還是要以官方公布的參數為準。

另外,根據Geekbench跑分平臺的數據信息顯示,華為Mate60 Pro所搭載的這顆芯片最高主頻為2.62GHz,這一數據與安兔兔平臺所公布的數據是一致的。單核跑分達到了914分,多核達到了2896分。這個跑分成績與驍龍888相差不大,單核成績略低于驍龍888,多核成績略高于驍龍888。

華為麒麟芯片的回歸,無疑是中國科技行業的一大喜事。經歷了長時間的努力,華為終于成功突破,這對于華為來說,無疑是一份厚重的禮物。

來源:天天IC、新機報告等

以碳化硅、氮化鎵為代表的第三代半導體是戰略性新興產業的核心材料,在《“十四五”規劃和2035年遠景目標綱要》中被列為重點;碳中和與新能源體系變革的背景下,在風電、光伏、新能源汽車、儲能等行業應用前景廣闊。

據行業機構預測,到2026年,碳化硅產品市場將達35億美元,氮化鎵功率產品市場需求增長到21億美元。近年來,國內企業如三安、英諾賽科、士蘭明鎵等不斷布局氮化鎵項目,全產業鏈項目約26個,國外龍頭如英飛凌等也正積極布局。

在碳化硅功率器件市場,受益于特斯拉的應用需求,意法半導體領先全球市場;Wolfspeed、安森美和羅姆等廠商跟隨。襯底、外延、芯片三個環節技術含量密集,是投資和創新重點。碳化硅6英寸襯底技術已經穩定導入產業,8英寸襯底正在探索商業化量產,其中尤以襯底大廠Wolfspeed推進最為迅速,國內企業在提供樣品或小規模供貨階段。

第三代半導體技術與材料論壇將于2023年9月21-22日在廈門召開。重點關注碳化硅、氮化鎵產業鏈前景,最新襯底、外延、器件技術與項目投資,碳化硅、氮化鎵長晶技術,凈化工程與EPC,新興化合物半導體前沿技術與應用。參觀第三代半導體重點企業與項目。

會議主題包括但不限于

國際形勢對中國第三代半導體發展的影響

第三代半導體市場及產業發展機遇

6寸與8寸SiC項目投資與市場需求

SiC長晶工藝技術與設備

凈化工程與EPC工程項目實踐

8英寸SiC國產化進程和技術突破

SiC市場以及技術發展難題&解決方案

SiC與GaN外延片技術進展

大尺寸GaN長晶難點及技術展望

GaN材料技術進展

SiC與GaN器件與下游應用

功率器件封裝技術與材料

新興化合物半導體進展:氧化鎵、氮化鋁、金剛石、氧化鋅

工業參觀與考察(重點企業或園區)

最新日程如下

會議日程

寬禁帶器件應用中的機遇與挑戰(題目暫定)

——廈門三安光電有限公司(已定)

中國第三代半導體產業布局情況(題目暫定)

——中關村天合寬禁帶半導體技術創新聯盟(已定)

SiC單晶生長技術淺析及應用展望(題目暫定)

——山西爍科晶體有限公司(已定)

國產碳化硅功率器件機遇和挑戰(題目暫定)

——安徽芯塔電子科技有限公司(已定)

國產SiC MOSFET發展要點淺析

——泰科天潤半導體科技(北京)有限公司(已定)

用于汽車半導體的碳化硅MOSFET解決方案(題目暫定)

——深圳基本半導體有限公司(已定)

大尺寸碳化硅單晶工藝控制

——山東天岳先進材料科技有限公司(待定)

碳化硅晶體的生長技術,PVT法及液相法

——中國電子科技集團公司第二研究所(待定)

大尺寸碳化硅晶圓制造技術難點

——上海積塔半導體有限公司(待定)

Si基GaN器件及系統研究與產業前景

——南方科技大學(待定)

氮化鎵同質外延功率/射頻器件應用與相關單晶襯底制備技術的研發進展

——東莞中鎵半導體科技有限公司(待定)

中國第三代半導體供應鏈現狀

——廈門士蘭明鎵化合物半導體有限公司(待定)

GaN在車用功率半導體的應用

——蘇州晶方半導體科技股份有限公司(待定)

*以上演講報告列表將隨著會議邀請工作進展不斷更新,最終版以會場發布為準。

若您有意向參與演講、贊助或參會,歡迎聯系我們!(見文末)

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